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光譜分析檢測(cè)儀哪種更好?

發(fā)布時(shí)間:2021-09-06 10:04:39         點(diǎn)擊:3040

       光譜分析儀是目前材料分析檢測(cè)的主要檢測(cè)手段,應(yīng)用在各個(gè)方面,那哪種更好呢?

       在光譜分析工作中,采用什么光源是提高光譜分析精密度和準(zhǔn)確度的關(guān)鍵所在。在經(jīng)典光譜分析工作中,根據(jù)分析對(duì)象采用火花光源、交流電弧或直流電弧光源。在特種對(duì)象分析中,如微區(qū)分析采用激光光源;逐層分析中采用輝光光源;對(duì)易揮發(fā)的痕量元素分析采用空心陰極光源等。這些光源在光譜分析工作中,都是為某種分析物體或某些分析元素采用所采用的不同分析手段。在金屬冶煉廠為配合爐前分析,采用火花光源結(jié)合光電直讀光譜儀分析。這些光源和儀器,目前仍是光譜分析工作者的主要應(yīng)用手段,擔(dān)負(fù)著大量的分析任務(wù)。

       但是經(jīng)典光源光譜分析有許多局限性,尤其是對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品的依賴性極大,因?yàn)榻?jīng)典光譜法光源(電弧或火花)一般采用的標(biāo)準(zhǔn)樣品(或稱參比樣品)物理性質(zhì)、化學(xué)組成與分析樣品必須一致,對(duì)于原子發(fā)射光譜一般還必須采用內(nèi)參比法(內(nèi)標(biāo)法),且內(nèi)標(biāo)元素的光譜化學(xué)性質(zhì):沸點(diǎn)、離解能、電離能、原于量和化學(xué)反應(yīng)能力、以及內(nèi)標(biāo)線的激發(fā)能和波長(zhǎng)等必須與分析元素及分析線相近。因此,往往由于沒有合適的標(biāo)準(zhǔn)樣品,不能確保分析質(zhì)量,常用光源存在著第三元素干擾和固體物理結(jié)構(gòu)的影響,元素同時(shí)測(cè)定的范圍也受到一定限制,往往一套標(biāo)準(zhǔn)樣品只能測(cè)定一種牌號(hào)的合金,在實(shí)際工作中不可能有大量的標(biāo)準(zhǔn)樣品,尤其是配合材料研究分析,材料元素和元素成分都不定型,更無標(biāo)準(zhǔn)可用。

真空型直讀光譜儀的鑄造廠應(yīng)用

       ICP光源對(duì)以上弊病似乎都可以解決。它可以用基準(zhǔn)物質(zhì)經(jīng)過適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)處理,可配制成所需要的不同元素和不同濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液;同時(shí)ICP光源還具有以下分析特點(diǎn):檢出限低;測(cè)量的動(dòng)態(tài)范圍寬;準(zhǔn)確度好;基體效應(yīng)小;精密度高;曝光時(shí)間短;原子發(fā)射光譜分析所具有的多元素同時(shí)分析的特點(diǎn)與其他分析方法逐個(gè)元素單獨(dú)測(cè)定相比,無論從效率的經(jīng)濟(jì),技術(shù)等方面都具有很大的特點(diǎn),這也是ICP原子發(fā)射光譜分析取得很大進(jìn)展的原因之一。

       但是個(gè)別元素,因?yàn)槠渥V線范圍問題,例如Sn,非真空儀器和一般ICP進(jìn)樣技術(shù)是無能為力的,所以ICP光譜儀也不能替代經(jīng)典光譜法。

       所以在金屬冶煉廠,采用真空型的的光電直讀光譜分析儀更為適合。
 

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