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X熒光光譜儀的鍍層檢測

發(fā)布時間:2022-12-01 08:53:27         點擊:2231

       X熒光光譜儀利用X熒光射線的反射強度,判定樣品中物質組成,但同時,X熒光光譜儀也可以對樣品表面的鍍層厚度進行檢測分析。

       當樣品很薄時,比如鍍層樣品,樣品中被激發(fā)的X射線熒光可能會穿透鍍層,鍍層的厚薄會影響X射線熒光信號的強弱,鍍層越厚,鍍層中被激發(fā)的X射線熒光信號就越強。

       當鍍層的厚度或鍍層的成分發(fā)生變化時,X射線熒光的信號會隨之變化。通過建立鍍層厚度和成分與X射線信號強度的關聯(lián)關系,就可以分析鍍層的厚度和成分。

       鍍層是通過電鍍在機械制品上沉積出附著良好的,但性能和基體材料不同的金屬覆層。電鍍層一般都比較薄,從幾十納米到幾十微米不等。通過電鍍,可以再機械制品上獲得裝飾保護性和各種功能性的表面層,還可以修復磨損和加工失誤的工件,鍍層厚度測量已成為加工工業(yè)、表面工程質量檢測的重要一環(huán),是產品達到優(yōu)等質量標準的必備手段。金屬鍍層通常按鍍層的用途可把鍍層分為三大類,即防護性鍍層,防護一裝飾性鍍層和功能性鍍層。

X熒光光譜儀的鍍層檢測

X熒光光譜儀的鍍層檢測

       X射線熒光光譜分析可以非破壞性同時完成組分和厚度測試,厚度的測量范圍視材料和元素而定,通常在1nm-50um之間。X射線熒光光譜法分析鍍層與其常規(guī)定量分析法相比較,被測元素的特征X射線熒光強度不僅與鍍層中待測元素和基材的組成有關,而且與厚度直接相關。

       能量色散X射線熒光光譜分析相對其他分析方法,具有無需對樣品進行特別的化學處理、快速,方便,測量成本低等明顯優(yōu)勢,特別適合用于各類相關企業(yè)作為過程控制和檢測使用。是目前應用較為廣泛,具有速度快、無損化以及可實現(xiàn)多鍍層同時分析等特點。
 

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